GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

本文件规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。

本文件适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析，测定范围为硼含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、铝含量不小于5×10ˇ13 cmˇ-3、氮含量不小于5×10ˇ15 cmˇ-3，元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。

标准编号：GB/T 41153-2021

标准名称：碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

英文名称：Determination of boron,aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry

发布部门：国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会

发布日期：2021-12-31

实施日期：2022-07-01

起草单位：中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司

起草人员：马农农、何友琴、陈潇、刘立娜、何烜坤、李素青、张红岩

文件格式：PDF

文件页数：6页

文件大小：525.46KB