SJ 21479-2018 磷化铟晶片研磨工艺技术要求

本标准规定了军用磷化锢晶片研磨工艺的人员、环境、安全、材料、设备和仪器等一般要求，以及磷化锢晶片研磨工艺的典型工艺流程、各工序技术要求、检验要求等详细要求。

本标准适用于磷化锢晶片研磨工艺。

标准编号：SJ 21479-2018

标准名称：磷化铟晶片研磨工艺技术要求

英文名称：Technical requirements for the lapping process of InP wafer

发布部门：国家国防科技工业局

发布日期：2018-12-29

实施日期：2019-03-01

文件格式：PDF

文件页数：8页

文件大小：1.57MB